> পণ্য > ট্যানটালাম কার্বাইড লেপ

পণ্য

নতুন পণ্য

চীন ট্যানটালাম কার্বাইড লেপ প্রস্তুতকারক, সরবরাহকারী, কারখানা

VeTek সেমিকন্ডাক্টর অর্ধপরিবাহী শিল্পের জন্য ট্যানটালাম কার্বাইড আবরণ উপকরণগুলির একটি নেতৃস্থানীয় প্রস্তুতকারক। আমাদের প্রধান পণ্য অফারগুলির মধ্যে রয়েছে CVD ট্যানটালাম কার্বাইড লেপ অংশ, SiC ক্রিস্টাল বৃদ্ধি বা সেমিকন্ডাক্টর এপিটাক্সি প্রক্রিয়ার জন্য sintered TaC আবরণ অংশ। ISO9001 পাস করা, VeTek সেমিকন্ডাক্টরের মানের উপর ভাল নিয়ন্ত্রণ রয়েছে। VeTek সেমিকন্ডাক্টর চলমান গবেষণা এবং পুনরাবৃত্তিমূলক প্রযুক্তির বিকাশের মাধ্যমে ট্যানটালাম কার্বাইড লেপ শিল্পে উদ্ভাবক হওয়ার জন্য নিবেদিত।

প্রধান পণ্য হলট্যানটালাম কার্বাইড লেপ ডিফেক্টর রিং, TaC প্রলিপ্ত ডাইভারশন রিং, TaC প্রলিপ্ত হাফমুন অংশ, ট্যানটালাম কার্বাইড প্রলিপ্ত প্ল্যানেটারি রোটেশন ডিস্ক (Aixtron G10), TaC প্রলিপ্ত ক্রুসিবল; TaC প্রলিপ্ত রিং; TaC প্রলিপ্ত ছিদ্রযুক্ত গ্রাফাইট; ট্যানটালাম কার্বাইড আবরণ গ্রাফাইট সাসেপ্টর; TaC প্রলিপ্ত গাইড রিং; TaC ট্যানটালাম কার্বাইড প্রলিপ্ত প্লেট; TaC প্রলিপ্ত ওয়েফার সাসেপ্টর; TaC আবরণ রিং; TaC আবরণ গ্রাফাইট কভার; TaC প্রলিপ্ত খণ্ডইত্যাদি, বিশুদ্ধতা 5ppm এর নিচে, গ্রাহকের প্রয়োজনীয়তা পূরণ করতে পারে।

TaC আবরণ গ্রাফাইট একটি মালিকানাধীন রাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD) প্রক্রিয়া দ্বারা একটি উচ্চ-বিশুদ্ধ গ্রাফাইট সাবস্ট্রেটের পৃষ্ঠকে ট্যানটালাম কার্বাইডের একটি সূক্ষ্ম স্তর দিয়ে আবরণ করে তৈরি করা হয়৷ সুবিধাটি নীচের ছবিতে দেখানো হয়েছে:

Performance Advantages of Tantalum Carbide Coating

ট্যানটালাম কার্বাইড (TaC) আবরণটি 3880°C পর্যন্ত উচ্চ গলনাঙ্ক, চমৎকার যান্ত্রিক শক্তি, কঠোরতা এবং তাপীয় শক প্রতিরোধের কারণে মনোযোগ আকর্ষণ করেছে, এটি উচ্চ তাপমাত্রার প্রয়োজনীয়তা সহ যৌগিক অর্ধপরিবাহী এপিটাক্সি প্রক্রিয়াগুলির একটি আকর্ষণীয় বিকল্প হিসাবে তৈরি করেছে, যেমন Aixtron MOCVD সিস্টেম এবং LPE SiC epitaxy process.PVT পদ্ধতি SiC ক্রিস্টাল বৃদ্ধি প্রক্রিয়ায় এটির ব্যাপক প্রয়োগ রয়েছে।

মূল বৈশিষ্ট্য:

তাপমাত্রা স্থিতিশীলতা

অতি উচ্চ বিশুদ্ধতা

H2, NH3, SiH4, Si এর প্রতিরোধ

তাপীয় স্টক প্রতিরোধের

গ্রাফাইটের শক্তিশালী আনুগত্য

কনফর্মাল লেপ কভারেজ

750 মিমি ব্যাস পর্যন্ত আকার (চীনের একমাত্র প্রস্তুতকারক এই আকারে পৌঁছায়)

অ্যাপ্লিকেশন:

ওয়েফার ক্যারিয়ার

ইন্ডাকটিভ হিটিং সাসেপ্টর

প্রতিরোধী গরম করার উপাদান

স্যাটেলাইট ডিস্ক

ঝরনা

গাইড রিং

এলইডি ইপি রিসিভার

ইনজেকশন অগ্রভাগ

মাস্কিং রিং

তাপ ঢাল

একটি মাইক্রোস্কোপিক ক্রস-সেকশনে ট্যানটালাম কার্বাইড (TaC) আবরণ:

Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section

VeTek সেমিকন্ডাক্টর ট্যানটালাম কার্বাইড আবরণের প্যারামিটার:

TaC আবরণের শারীরিক বৈশিষ্ট্য
ঘনত্ব	14.3 (g/cm³)
নির্দিষ্ট নির্গততা	0.3
তাপ সম্প্রসারণ সহগ	6.3 10^-6/কে
কঠোরতা (HK)	2000 HK
প্রতিরোধ	1×10^-5ওম*সেমি
তাপীয় স্থিতিশীলতা	<2500℃
গ্রাফাইটের আকার পরিবর্তন	-10~-20um
আবরণ বেধ	≥20um সাধারণ মান (35um±10um)

TaC আবরণ EDX ডেটা：

TaC coating EDX data

TaC আবরণ স্ফটিক গঠন তথ্য

উপাদান	পারমাণবিক শতাংশ
	পন্ডিত 1	পন্ডিত 2	পন্ডিত 3	গড়
সি কে	52.10	57.41	52.37	53.96
টা এম	47.90	42.59	47.63	46.04

TaC আবরণ চক TaC আবরণ প্ল্যানেটারি ডিস্ক TaC প্রলিপ্ত প্লেট TaC আবরণ ঘূর্ণন প্লেট TaC আবরণ সাসেপ্টর CVD TaC আবরণ কভার CVD TaC আবরণ রিং TaC আবরণ প্লেট

View as

ট্যানটালাম কার্বাইড লেপা রিং

একজন পেশাদার উদ্ভাবক এবং চীনে ট্যানটালাম কার্বাইড প্রলিপ্ত রিং পণ্যের নেতা হিসাবে, VeTek সেমিকন্ডাক্টর ট্যানটালাম কার্বাইড প্রলিপ্ত রিং তার চমৎকার উচ্চ তাপমাত্রা প্রতিরোধ, পরিধান প্রতিরোধ এবং চমৎকার তাপ পরিবাহিতা সহ SiC ক্রিস্টাল বৃদ্ধিতে একটি অপরিবর্তনীয় ভূমিকা পালন করে। আপনার আরও পরামর্শ স্বাগত জানাই.

আরও পড়ুন অনুসন্ধান পাঠান

ছিদ্রযুক্ত ট্যানটালাম কার্বাইড

VeTek সেমিকন্ডাক্টর হল একজন পেশাদার প্রস্তুতকারক এবং চীনে পোরাস ট্যানটালাম কার্বাইড পণ্যের নেতা। ছিদ্রযুক্ত ট্যানটালাম কার্বাইড সাধারণত রাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD) পদ্ধতি দ্বারা তৈরি করা হয়, এটির ছিদ্রের আকার এবং বিতরণের সুনির্দিষ্ট নিয়ন্ত্রণ নিশ্চিত করে এবং এটি উচ্চ তাপমাত্রার চরম পরিবেশের জন্য নিবেদিত একটি উপাদান সরঞ্জাম। আপনার আরও পরামর্শ স্বাগত জানাই.

আরও পড়ুন অনুসন্ধান পাঠান

ট্যানটালাম কার্বাইড রিং

চীনে ট্যানটালাম কার্বাইড রিং পণ্যগুলির একটি উন্নত প্রস্তুতকারক এবং প্রযোজক হিসাবে, VeTek সেমিকন্ডাক্টর ট্যানটালাম কার্বাইড রিংয়ের অত্যন্ত উচ্চ কঠোরতা, পরিধান প্রতিরোধের, উচ্চ তাপমাত্রা প্রতিরোধের এবং রাসায়নিক স্থিতিশীলতা রয়েছে এবং সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদন ক্ষেত্রে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়। বিশেষ করে সিভিডি, পিভিডি, আয়ন ইমপ্লান্টেশন প্রক্রিয়া, এচিং প্রক্রিয়া এবং ওয়েফার প্রক্রিয়াকরণ এবং পরিবহনে, এটি সেমিকন্ডাক্টর প্রক্রিয়াকরণ এবং উত্পাদনের জন্য একটি অপরিহার্য পণ্য। আপনার আরও পরামর্শের জন্য উন্মুখ.

আরও পড়ুন অনুসন্ধান পাঠান

ট্যানটালাম কার্বাইড আবরণ সমর্থন

চীনে পেশাদার ট্যানটালাম কার্বাইড লেপ সমর্থন পণ্য প্রস্তুতকারক এবং কারখানা হিসাবে, VeTek সেমিকন্ডাক্টর ট্যানটালাম কার্বাইড লেপ সমর্থন সাধারণত কাঠামোগত উপাদানগুলির পৃষ্ঠের আবরণ বা সেমিকন্ডাক্টর সরঞ্জামগুলিতে সমর্থন উপাদানগুলির জন্য ব্যবহৃত হয়, বিশেষত সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদন প্রক্রিয়াগুলিতে মূল সরঞ্জামের উপাদানগুলির পৃষ্ঠ সুরক্ষার জন্য যেমন সিভিডি এবং পিভিডি। আপনার আরও পরামর্শ স্বাগত জানাই.

আরও পড়ুন অনুসন্ধান পাঠান

ট্যানটালাম কার্বাইড গাইড রিং

VeTek সেমিকন্ডাক্টর হল একজন পেশাদার প্রস্তুতকারক এবং চীনে ট্যানটালাম কার্বাইড গাইড রিং পণ্যের নেতা। আমাদের ট্যানটালাম কার্বাইড (TaC) গাইড রিং হল ট্যান্টালম কার্বাইড দিয়ে তৈরি একটি উচ্চ-পারফরম্যান্স রিং উপাদান, যা সাধারণত সেমিকন্ডাক্টর প্রসেসিং ইকুইপমেন্টে ব্যবহৃত হয়, বিশেষ করে উচ্চ-তাপমাত্রা এবং অত্যন্ত ক্ষয়কারী পরিবেশে যেমন CVD, PVD, এচিং এবং ডিফিউশন। VeTek সেমিকন্ডাক্টর সেমিকন্ডাক্টর শিল্পের জন্য উন্নত প্রযুক্তি এবং পণ্য সমাধান প্রদানের জন্য প্রতিশ্রুতিবদ্ধ, এবং আপনার আরও অনুসন্ধানগুলিকে স্বাগত জানায়।

আরও পড়ুন অনুসন্ধান পাঠান

TaC আবরণ ঘূর্ণন সাসেপ্টর

একজন পেশাদার প্রস্তুতকারক, উদ্ভাবক এবং চীনে TaC লেপ রোটেশন সাসেপ্টর পণ্যের নেতা হিসাবে। VeTek সেমিকন্ডাক্টর TaC আবরণ ঘূর্ণন সাসেপ্টর সাধারণত রাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD) এবং আণবিক মরীচি এপিটাক্সি (MBE) সরঞ্জামগুলিতে ইনস্টল করা হয় যাতে ওয়েফারগুলিকে সমর্থন এবং ঘোরানো হয় যাতে অভিন্ন উপাদান জমা এবং কার্যকর প্রতিক্রিয়া নিশ্চিত করা যায়। এটি সেমিকন্ডাক্টর প্রক্রিয়াকরণের একটি মূল উপাদান। আপনার আরও পরামর্শ স্বাগত জানাই.

আরও পড়ুন অনুসন্ধান পাঠান

<1 2 3 4 5...7 >

চীনে একজন পেশাদার ট্যানটালাম কার্বাইড লেপ প্রস্তুতকারক এবং সরবরাহকারী হিসাবে, আমাদের নিজস্ব কারখানা রয়েছে। আপনার অঞ্চলের নির্দিষ্ট চাহিদা মেটাতে আপনার কাস্টমাইজড পরিষেবার প্রয়োজন হোক বা চীনে তৈরি উন্নত এবং টেকসই ট্যানটালাম কার্বাইড লেপ কিনতে চান, আপনি আমাদের একটি বার্তা দিতে পারেন।