আপনি কি MOCVD সাসেপ্টর সম্পর্কে জানেন?

ধাতু-জৈব রাসায়নিক বাষ্প জমা (MOCVD) প্রক্রিয়ায়, সাসেপ্টর একটি মূল উপাদান যা ওয়েফারকে সমর্থন করে এবং জমা প্রক্রিয়ার অভিন্নতা এবং সুনির্দিষ্ট নিয়ন্ত্রণ নিশ্চিত করার জন্য দায়ী। এর উপাদান নির্বাচন এবং পণ্যের বৈশিষ্ট্যগুলি সরাসরি এপিটাক্সিয়াল প্রক্রিয়ার স্থায়িত্ব এবং পণ্যের গুণমানকে প্রভাবিত করে।

MOCVD গ্রহণকারী(ধাতু-জৈব রাসায়নিক বাষ্প জমা) সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদনের একটি মূল প্রক্রিয়া উপাদান। এটি প্রধানত MOCVD (ধাতু-জৈব রাসায়নিক বাষ্প জমা) প্রক্রিয়াতে পাতলা ফিল্ম জমার জন্য ওয়েফারকে সমর্থন এবং গরম করতে ব্যবহৃত হয়। চূড়ান্ত পণ্যের অভিন্নতা, দক্ষতা এবং গুণমানের জন্য সাসেপ্টরের নকশা এবং উপাদান নির্বাচন অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণ।

পণ্যের ধরন এবং উপাদান নির্বাচন:

MOCVD সাসেপ্টরের নকশা এবং উপাদান নির্বাচন বৈচিত্র্যময়, সাধারণত প্রক্রিয়ার প্রয়োজনীয়তা এবং প্রতিক্রিয়া অবস্থার দ্বারা নির্ধারিত হয়।নিম্নলিখিত সাধারণ পণ্য প্রকার এবং তাদের উপকরণ:

SiC প্রলিপ্ত সাসেপ্টর(সিলিকন কার্বাইড প্রলিপ্ত সাসেপ্টর):

বর্ণনা: সাবস্ট্রেট হিসাবে গ্রাফাইট বা অন্যান্য উচ্চ-তাপমাত্রার উপকরণ সহ SiC আবরণ সহ সাসেপ্টর এবং পৃষ্ঠে CVD SiC আবরণ (CVD SiC আবরণ) এর পরিধান প্রতিরোধ এবং জারা প্রতিরোধ ক্ষমতা উন্নত করতে।

প্রয়োগ: উচ্চ তাপমাত্রা এবং অত্যন্ত ক্ষয়কারী গ্যাস পরিবেশে MOCVD প্রক্রিয়াগুলিতে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়, বিশেষত সিলিকন এপিটাক্সি এবং যৌগিক সেমিকন্ডাক্টর জমাতে।

TaC প্রলিপ্ত সাসেপ্টর:

বর্ণনা: প্রধান উপাদান হিসাবে TaC আবরণ (CVD TaC আবরণ) সহ সাসেপ্টরটির অত্যন্ত উচ্চ কঠোরতা এবং রাসায়নিক স্থিতিশীলতা রয়েছে এবং এটি অত্যন্ত ক্ষয়কারী পরিবেশে ব্যবহারের জন্য উপযুক্ত।

প্রয়োগ: MOCVD প্রক্রিয়াগুলিতে ব্যবহৃত হয় যার জন্য উচ্চতর জারা প্রতিরোধের এবং যান্ত্রিক শক্তি প্রয়োজন, যেমন গ্যালিয়াম নাইট্রাইড (GaN) এবং গ্যালিয়াম আর্সেনাইড (GaAs) জমা করা।

MOCVD এর জন্য সিলিকন কার্বাইড প্রলিপ্ত গ্রাফাইট সাসেপ্টর:

বর্ণনা: সাবস্ট্রেটটি গ্রাফাইট, এবং উচ্চ তাপমাত্রায় স্থিতিশীলতা এবং দীর্ঘ জীবন নিশ্চিত করতে পৃষ্ঠটি CVD SiC আবরণের একটি স্তর দিয়ে আচ্ছাদিত।

অ্যাপ্লিকেশন: উচ্চ-মানের যৌগিক অর্ধপরিবাহী উপকরণ তৈরির জন্য Aixtron MOCVD চুল্লির মতো সরঞ্জামগুলিতে ব্যবহারের জন্য উপযুক্ত।

ইপিআই রিসেপ্টর (এপিটাক্সি রিসেপ্টর):

বর্ণনা: সাসেপ্টর বিশেষভাবে এপিটাক্সিয়াল বৃদ্ধি প্রক্রিয়ার জন্য ডিজাইন করা হয়েছে, সাধারণত SiC আবরণ বা TaC আবরণ এর তাপ পরিবাহিতা এবং স্থায়িত্ব বাড়াতে।

প্রয়োগ: সিলিকন এপিটাক্সি এবং যৌগিক সেমিকন্ডাক্টর এপিটাক্সিতে, এটি ওয়েফারগুলির অভিন্ন গরম এবং জমা নিশ্চিত করতে ব্যবহৃত হয়।

সেমিকন্ডাক্টর প্রক্রিয়াকরণে MOCVD-এর জন্য সাসেপ্টরের প্রধান ভূমিকা:

ওয়েফার সমর্থন এবং অভিন্ন গরম:

ফাংশন: সাসেপ্টর MOCVD চুল্লিগুলিতে ওয়েফারগুলিকে সমর্থন করতে এবং অভিন্ন ফিল্ম জমা নিশ্চিত করতে ইন্ডাকশন হিটিং বা অন্যান্য পদ্ধতির মাধ্যমে অভিন্ন তাপ বিতরণ সরবরাহ করতে ব্যবহৃত হয়।

তাপ সঞ্চালন এবং স্থায়িত্ব:

ফাংশন: সাসেপ্টর পদার্থের তাপ পরিবাহিতা এবং তাপীয় স্থিতিশীলতা অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণ। SiC কোটেড সাসেপ্টর এবং TaC প্রলিপ্ত সাসেপ্টর উচ্চ তাপ পরিবাহিতা এবং উচ্চ তাপমাত্রা প্রতিরোধের কারণে উচ্চ-তাপমাত্রার প্রক্রিয়াগুলিতে স্থিতিশীলতা বজায় রাখতে পারে, অসম তাপমাত্রার কারণে ফিল্মের ত্রুটিগুলি এড়াতে পারে।

জারা প্রতিরোধের এবং দীর্ঘ জীবন:

ফাংশন: MOCVD প্রক্রিয়ায়, সাসেপ্টর বিভিন্ন রাসায়নিক অগ্রদূত গ্যাসের সংস্পর্শে আসে। SiC আবরণ এবং TaC আবরণ চমৎকার জারা প্রতিরোধের প্রদান করে, উপাদান পৃষ্ঠ এবং প্রতিক্রিয়া গ্যাসের মধ্যে মিথস্ক্রিয়া হ্রাস করে এবং সাসেপ্টরের পরিষেবা জীবন প্রসারিত করে।

প্রতিক্রিয়া পরিবেশের অপ্টিমাইজেশান:

ফাংশন: উচ্চ-মানের সাসেপ্টর ব্যবহার করে, MOCVD চুল্লিতে গ্যাস প্রবাহ এবং তাপমাত্রা ক্ষেত্রটি অপ্টিমাইজ করা হয়, একটি অভিন্ন ফিল্ম জমা করার প্রক্রিয়া নিশ্চিত করে এবং ডিভাইসের ফলন এবং কর্মক্ষমতা উন্নত করে। এটি সাধারণত MOCVD চুল্লি এবং Aixtron MOCVD সরঞ্জামগুলির জন্য সাসেপ্টরগুলিতে ব্যবহৃত হয়।

পণ্য বৈশিষ্ট্য এবং প্রযুক্তিগত সুবিধা：

উচ্চ তাপ পরিবাহিতা এবং তাপীয় স্থিতিশীলতা:

বৈশিষ্ট্য: SiC এবং TaC প্রলিপ্ত সাসেপ্টরগুলির অত্যন্ত উচ্চ তাপ পরিবাহিতা রয়েছে, দ্রুত এবং সমানভাবে তাপ বিতরণ করতে পারে এবং ওয়েফারগুলির অভিন্ন গরম করার জন্য উচ্চ তাপমাত্রায় কাঠামোগত স্থিতিশীলতা বজায় রাখতে পারে।

সুবিধা: MOCVD প্রক্রিয়াগুলির জন্য উপযুক্ত যেগুলির জন্য সুনির্দিষ্ট তাপমাত্রা নিয়ন্ত্রণ প্রয়োজন, যেমন গ্যালিয়াম নাইট্রাইড (GaN) এবং গ্যালিয়াম আর্সেনাইড (GaAs) এর মতো যৌগিক সেমিকন্ডাক্টরের এপিটাক্সিয়াল বৃদ্ধি।

চমৎকার জারা প্রতিরোধের:

বৈশিষ্ট্য: CVD SiC আবরণ এবং CVD TaC আবরণে অত্যন্ত উচ্চ রাসায়নিক জড়তা রয়েছে এবং ক্লোরাইড এবং ফ্লোরাইডের মতো অত্যন্ত ক্ষয়কারী গ্যাস থেকে ক্ষয় প্রতিরোধ করতে পারে, ক্ষতির হাত থেকে সাসেপ্টরের সাবস্ট্রেটকে রক্ষা করে।

সুবিধাগুলি: সাসেপ্টরের পরিষেবা জীবন প্রসারিত করুন, রক্ষণাবেক্ষণের ফ্রিকোয়েন্সি হ্রাস করুন এবং MOCVD প্রক্রিয়ার সামগ্রিক দক্ষতা উন্নত করুন।

উচ্চ যান্ত্রিক শক্তি এবং কঠোরতা:

বৈশিষ্ট্য: SiC এবং TaC আবরণগুলির উচ্চ কঠোরতা এবং যান্ত্রিক শক্তি সাসেপ্টরকে উচ্চ তাপমাত্রা এবং উচ্চ চাপের পরিবেশে যান্ত্রিক চাপ সহ্য করতে এবং দীর্ঘমেয়াদী স্থিতিশীলতা এবং নির্ভুলতা বজায় রাখতে সক্ষম করে।

সুবিধা: বিশেষত সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদন প্রক্রিয়াগুলির জন্য উপযুক্ত যার জন্য উচ্চ নির্ভুলতা প্রয়োজন, যেমন এপিটাক্সিয়াল বৃদ্ধি এবং রাসায়নিক বাষ্প জমা।

বাজার অ্যাপ্লিকেশন এবং উন্নয়ন সম্ভাবনা

MOCVD সাসেপ্টরউচ্চ-উজ্জ্বল LED, পাওয়ার ইলেকট্রনিক ডিভাইস (যেমন GaN-ভিত্তিক HEMT), সোলার সেল এবং অন্যান্য অপটোইলেক্ট্রনিক ডিভাইস তৈরিতে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়। উচ্চ কর্মক্ষমতা এবং কম শক্তি খরচ সেমিকন্ডাক্টর ডিভাইসের জন্য ক্রমবর্ধমান চাহিদার সাথে, MOCVD প্রযুক্তি অগ্রসর হচ্ছে, সাসেপ্টর উপকরণ এবং ডিজাইনে উদ্ভাবন চালাচ্ছে। উদাহরণস্বরূপ, উচ্চতর বিশুদ্ধতা এবং নিম্ন ত্রুটির ঘনত্ব সহ SiC আবরণ প্রযুক্তির বিকাশ, এবং বৃহত্তর ওয়েফার এবং আরও জটিল মাল্টি-লেয়ার এপিটাক্সিয়াল প্রক্রিয়াগুলির সাথে খাপ খাইয়ে নিতে সাসেপ্টরের কাঠামোগত নকশাকে অপ্টিমাইজ করা।

VeTek সেমিকন্ডাক্টর টেকনোলজি কোং, লিমিটেড হল সেমিকন্ডাক্টর শিল্পের জন্য উন্নত আবরণ সামগ্রীর একটি নেতৃস্থানীয় প্রদানকারী। আমাদের কোম্পানী শিল্পের জন্য অত্যাধুনিক সমাধান বিকাশের উপর ফোকাস করে।

আমাদের প্রধান পণ্য অফারগুলির মধ্যে রয়েছে CVD সিলিকন কার্বাইড (SiC) আবরণ, ট্যানটালাম কার্বাইড (TaC) আবরণ, বাল্ক SiC, SiC পাউডার, এবং উচ্চ-বিশুদ্ধ SiC উপকরণ, SiC প্রলিপ্ত গ্রাফাইট সাসেপ্টর, প্রিহিট রিং, TaC প্রলিপ্ত ডাইভারশন রিং, হাফমুন পার্টস ইত্যাদি ., বিশুদ্ধতা 5ppm এর নিচে, গ্রাহকের প্রয়োজনীয়তা পূরণ করতে পারে।

VeTek সেমিকন্ডাক্টর সেমিকন্ডাক্টর শিল্পের জন্য অত্যাধুনিক প্রযুক্তি এবং পণ্য উন্নয়ন সমাধান বিকাশের উপর ফোকাস করে। আমরা আন্তরিকভাবে চীনে আপনার দীর্ঘমেয়াদী অংশীদার হতে আশা করি।