TaC আবরণ কি?

TaC আবরণ (ট্যান্টালম কার্বাইড আবরণ) রাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD) প্রক্রিয়া দ্বারা উত্পাদিত একটি উচ্চ-কর্মক্ষমতা আবরণ উপাদান. চরম অবস্থার অধীনে TaC আবরণের চমৎকার বৈশিষ্ট্যগুলির কারণে, এটি সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদন প্রক্রিয়াতে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়, বিশেষত উচ্চ তাপমাত্রা এবং শক্তিশালী ক্ষয়কারী পরিবেশের প্রয়োজন এমন সরঞ্জাম এবং উপাদানগুলিতে। TaC আবরণ সাধারণত উচ্চ তাপমাত্রা, ক্ষয়কারী গ্যাস এবং যান্ত্রিক পরিধান দ্বারা ক্ষতি থেকে সাবস্ট্রেট (যেমন গ্রাফাইট বা সিরামিক) রক্ষা করতে ব্যবহৃত হয়।

পণ্য বৈশিষ্ট্য এবং সুবিধা

অত্যন্ত উচ্চ তাপ স্থিতিশীলতা:

বৈশিষ্ট্যের বিবরণ: TaC আবরণের গলনাঙ্ক 3880°C এর বেশি এবং অত্যন্ত উচ্চ তাপমাত্রার পরিবেশে পচন বা বিকৃতি ছাড়াই স্থিতিশীলতা বজায় রাখতে পারে।

সুবিধা: এটি উচ্চ-তাপমাত্রার সেমিকন্ডাক্টর সরঞ্জাম যেমন CVD TaC আবরণ এবং TaC প্রলিপ্ত সাসেপ্টর, বিশেষত Aixtron G5 সরঞ্জামের মতো MOCVD চুল্লিগুলিতে অ্যাপ্লিকেশনগুলির জন্য এটিকে একটি অপরিহার্য উপাদান করে তোলে।

চমৎকার জারা প্রতিরোধের:

বৈশিষ্ট্যের বিবরণ: TaC এর অত্যন্ত শক্তিশালী রাসায়নিক জড়তা রয়েছে এবং এটি ক্লোরাইড এবং ফ্লোরাইডের মতো ক্ষয়কারী গ্যাসের ক্ষয়কে কার্যকরভাবে প্রতিরোধ করতে পারে।

উপকারিতা: অত্যন্ত ক্ষয়কারী রাসায়নিক জড়িত সেমিকন্ডাক্টর প্রক্রিয়াগুলিতে, TaC আবরণ রাসায়নিক আক্রমণ থেকে সরঞ্জামের উপাদানগুলিকে রক্ষা করে, পরিষেবার জীবনকে দীর্ঘায়িত করে এবং প্রক্রিয়ার স্থিতিশীলতা উন্নত করে, বিশেষত সিলিকন কার্বাইড ওয়েফার বোট এবং অন্যান্য মূল উপাদানগুলির প্রয়োগে।

চমৎকার যান্ত্রিক কঠোরতা:

বৈশিষ্ট্যের বিবরণ: TaC আবরণের কঠোরতা 9-10 Mohs এর মতো, যা এটিকে যান্ত্রিক পরিধান এবং উচ্চ তাপমাত্রার চাপের বিরুদ্ধে প্রতিরোধী করে তোলে।

সুবিধা: উচ্চ কঠোরতার বৈশিষ্ট্য TaC আবরণকে উচ্চ পরিধান এবং উচ্চ চাপের পরিবেশে ব্যবহারের জন্য বিশেষভাবে উপযোগী করে তোলে, কঠোর পরিস্থিতিতে দীর্ঘমেয়াদী স্থিতিশীলতা এবং সরঞ্জামের নির্ভরযোগ্যতা নিশ্চিত করে।

কম রাসায়নিক বিক্রিয়া:

বৈশিষ্ট্যের বিবরণ: এর রাসায়নিক নিষ্ক্রিয়তার কারণে, TaC আবরণ উচ্চ তাপমাত্রার পরিবেশে কম প্রতিক্রিয়াশীলতা বজায় রাখতে পারে এবং প্রতিক্রিয়াশীল গ্যাসের সাথে অপ্রয়োজনীয় রাসায়নিক বিক্রিয়া এড়াতে পারে।

সুবিধা: অর্ধপরিবাহী উত্পাদন প্রক্রিয়ায় এটি বিশেষভাবে গুরুত্বপূর্ণ কারণ এটি প্রক্রিয়া পরিবেশের বিশুদ্ধতা এবং উপকরণগুলির উচ্চ-মানের জমা নিশ্চিত করে।

অর্ধপরিবাহী প্রক্রিয়াকরণে TaC আবরণ ভূমিকা

মূল সরঞ্জাম উপাদান রক্ষা:

ফাংশন বিবরণ: TaC আবরণ ব্যাপকভাবে সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদন সরঞ্জামের মূল উপাদানগুলিতে ব্যবহৃত হয়, যেমন TaC কোটেড সাসেপ্টর, যেগুলি চরম পরিস্থিতিতে কাজ করতে হয়। TaC এর সাথে আবরণ দ্বারা, এই উপাদানগুলি ক্ষতি না করে উচ্চ তাপমাত্রা এবং ক্ষয়কারী গ্যাস পরিবেশে দীর্ঘ সময়ের জন্য কাজ করতে পারে।

সরঞ্জাম জীবন প্রসারিত:

ফাংশন বিবরণ: MOCVD সরঞ্জাম যেমন Aixtron G5, TaC আবরণ উল্লেখযোগ্যভাবে সরঞ্জামের উপাদানগুলির স্থায়িত্ব উন্নত করতে পারে এবং ক্ষয় এবং পরিধানের কারণে সরঞ্জাম রক্ষণাবেক্ষণ এবং প্রতিস্থাপনের প্রয়োজনীয়তা হ্রাস করতে পারে।

প্রক্রিয়া স্থিতিশীলতা উন্নত:

ফাংশন বিবরণ: অর্ধপরিবাহী উত্পাদনে, TaC আবরণ একটি স্থিতিশীল উচ্চ তাপমাত্রা এবং রাসায়নিক পরিবেশ প্রদান করে জমা প্রক্রিয়ার অভিন্নতা এবং ধারাবাহিকতা নিশ্চিত করে। সিলিকন এপিটাক্সি এবং গ্যালিয়াম নাইট্রাইড (GaN) এর মতো এপিটাক্সিয়াল বৃদ্ধির প্রক্রিয়াগুলিতে এটি বিশেষভাবে গুরুত্বপূর্ণ।

প্রক্রিয়া দক্ষতা উন্নত:

ফাংশন বিবরণ: সরঞ্জামের পৃষ্ঠের আবরণ অপ্টিমাইজ করে, TaC আবরণ প্রক্রিয়াটির সামগ্রিক দক্ষতা উন্নত করতে পারে, ত্রুটির হার কমাতে পারে এবং পণ্যের ফলন বাড়াতে পারে। এটি উচ্চ-নির্ভুলতা, উচ্চ-বিশুদ্ধতার অর্ধপরিবাহী উপকরণ তৈরির জন্য গুরুত্বপূর্ণ।

অর্ধপরিবাহী প্রক্রিয়াকরণের সময় TaC আবরণ দ্বারা প্রদর্শিত উচ্চ তাপীয় স্থিতিশীলতা, চমৎকার জারা প্রতিরোধ, যান্ত্রিক কঠোরতা এবং নিম্ন রাসায়নিক প্রতিক্রিয়া এটিকে সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদন সরঞ্জামের উপাদানগুলিকে রক্ষা করার জন্য একটি আদর্শ পছন্দ করে তোলে। উচ্চ তাপমাত্রা, উচ্চ বিশুদ্ধতা এবং দক্ষ উত্পাদন প্রক্রিয়াগুলির জন্য সেমিকন্ডাক্টর শিল্পের চাহিদা বৃদ্ধি অব্যাহত থাকায়, TaC আবরণের ব্যাপক প্রয়োগের সম্ভাবনা রয়েছে, বিশেষত CVD TaC আবরণ, TaC প্রলিপ্ত সাসেপ্টর এবং Aixtron G5 জড়িত যন্ত্রপাতি এবং প্রক্রিয়াগুলিতে।

VeTek সেমিকন্ডাক্টর টেকনোলজি কোং, লিমিটেড হল সেমিকন্ডাক্টর শিল্পের জন্য উন্নত আবরণ সামগ্রীর একটি নেতৃস্থানীয় প্রদানকারী। আমাদের কোম্পানী শিল্পের জন্য অত্যাধুনিক সমাধান বিকাশের উপর ফোকাস করে।

আমাদের প্রধান পণ্য অফারগুলির মধ্যে রয়েছে CVD সিলিকন কার্বাইড (SiC) আবরণ, ট্যানটালাম কার্বাইড (TaC) আবরণ, বাল্ক SiC, SiC পাউডার, এবং উচ্চ-বিশুদ্ধ SiC উপকরণ, SiC প্রলিপ্ত গ্রাফাইট সাসেপ্টর, প্রিহিট রিং, TaC প্রলিপ্ত ডাইভারশন রিং, হাফমুন পার্টস ইত্যাদি ., বিশুদ্ধতা 5ppm এর নিচে, গ্রাহকের প্রয়োজনীয়তা পূরণ করতে পারে।

VeTek সেমিকন্ডাক্টর সেমিকন্ডাক্টর শিল্পের জন্য অত্যাধুনিক প্রযুক্তি এবং পণ্য উন্নয়ন সমাধান বিকাশের উপর ফোকাস করে।আমরা আন্তরিকভাবে চীনে আপনার দীর্ঘমেয়াদী অংশীদার হতে আশা করি.