CVD TaC আবরণ রিং

VeTek সেমিকন্ডাক্টরের CVD TaC আবরণ রিং সফল সিলিকন কার্বাইড একক ক্রিস্টাল বৃদ্ধির জন্য একটি গুরুত্বপূর্ণ উপাদান। এর উচ্চ-তাপমাত্রা প্রতিরোধ, রাসায়নিক জড়তা এবং উচ্চতর কর্মক্ষমতা সহ, এটি সুসংগত ফলাফল সহ উচ্চ-মানের স্ফটিক উত্পাদন নিশ্চিত করে। আপনার PVT পদ্ধতি SiC ক্রিস্টাল বৃদ্ধির প্রক্রিয়াগুলিকে উন্নত করতে এবং ব্যতিক্রমী ফলাফল অর্জন করতে আমাদের উদ্ভাবনী সমাধানগুলিতে বিশ্বাস করুন।

সিলিকন কার্বাইড একক স্ফটিক বৃদ্ধির সময়, CVD TaC আবরণ রিং সর্বোত্তম ফলাফল নিশ্চিত করতে একটি গুরুত্বপূর্ণ ভূমিকা পালন করে। এর সুনির্দিষ্ট মাত্রা এবং উচ্চ-মানের TaC আবরণ অভিন্ন তাপমাত্রা বন্টন, তাপীয় চাপ কমিয়ে এবং স্ফটিক গুণমানকে উন্নীত করতে সক্ষম করে। TaC আবরণের উচ্চতর তাপ পরিবাহিতা দক্ষ তাপ অপচয়ের সুবিধা দেয়, উন্নত বৃদ্ধির হার এবং বর্ধিত স্ফটিক বৈশিষ্ট্যগুলিতে অবদান রাখে। এর মজবুত নির্মাণ এবং চমৎকার তাপীয় স্থিতিশীলতা নির্ভরযোগ্য কর্মক্ষমতা এবং বর্ধিত পরিষেবা জীবন নিশ্চিত করে, ঘন ঘন প্রতিস্থাপনের প্রয়োজনীয়তা হ্রাস করে এবং উৎপাদন ডাউনটাইম কমিয়ে দেয়।

সিভিডি TaC আবরণ রিং এর রাসায়নিক জড়তা SiC স্ফটিক বৃদ্ধি প্রক্রিয়ার সময় অবাঞ্ছিত প্রতিক্রিয়া এবং দূষণ প্রতিরোধে অপরিহার্য। এটি একটি প্রতিরক্ষামূলক বাধা প্রদান করে, স্ফটিকের অখণ্ডতা বজায় রাখে এবং অমেধ্য কমিয়ে দেয়। এটি চমৎকার বৈদ্যুতিক এবং অপটিক্যাল বৈশিষ্ট্য সহ উচ্চ-মানের, ত্রুটি-মুক্ত একক স্ফটিক উত্পাদনে অবদান রাখে।

এর ব্যতিক্রমী কর্মক্ষমতা ছাড়াও, CVD TaC আবরণ রিং সহজ ইনস্টলেশন এবং রক্ষণাবেক্ষণের জন্য ডিজাইন করা হয়েছে। বিদ্যমান সরঞ্জামের সাথে এর সামঞ্জস্য এবং বিরামবিহীন ইন্টিগ্রেশন সুবিন্যস্ত অপারেশন এবং বর্ধিত উত্পাদনশীলতা নিশ্চিত করে।

নির্ভরযোগ্য এবং দক্ষ পারফরম্যান্সের জন্য VeTek সেমিকন্ডাক্টর এবং আমাদের CVD TaC কোটিং রিং-এর উপর নির্ভর করুন, আপনাকে SiC ক্রিস্টাল গ্রোথ টেকনোলজির অগ্রভাগে রাখবে।

PVT পদ্ধতি SiC ক্রিস্টাল বৃদ্ধি:

SiC ক্রিস্টাল গ্রোথ ফার্নেস:

CVD TaC আবরণ রিং এর স্পেসিফিকেশন:

শিল্প চেইন:

উৎপাদনের দোকান