ট্যানটালাম কার্বাইড লেপা রিং

VeTek সেমিকন্ডাক্টর ট্যানটালাম কার্বাইড প্রলিপ্ত রিং থেকে তৈরি করা হয়গ্রাফাইটএবং ট্যানটালাম কার্বাইড দিয়ে প্রলিপ্ত, একটি সংমিশ্রণ যা উচ্চতর কর্মক্ষমতা এবং দীর্ঘায়ু নিশ্চিত করতে উভয় উপাদানের সেরা বৈশিষ্ট্যগুলিকে ব্যবহার করে। 

ট্যানটালাম কার্বাইড লেপ রিং-এর উপর TaC আবরণ নিশ্চিত করে যে এটি SiC স্ফটিক বৃদ্ধির চুল্লিগুলির প্রতিক্রিয়াশীল বায়ুমণ্ডলে রাসায়নিকভাবে নিষ্ক্রিয় থাকে, যা প্রায়শই হাইড্রোজেন, আর্গন এবং নাইট্রোজেনের মতো গ্যাসগুলিকে জড়িত করে। এই রাসায়নিক নিষ্ক্রিয়তা ক্রমবর্ধমান ক্রিস্টালের কোনো দূষণ রোধ করার জন্য অত্যাবশ্যক, যা চূড়ান্ত অর্ধপরিবাহী পণ্যগুলির ত্রুটি এবং কর্মক্ষমতা হ্রাস করতে পারে। উপরন্তু, TaC আবরণ দ্বারা প্রদত্ত তাপীয় স্থিতিশীলতা ট্যানটালাম কার্বাইড আবরণ রিংকে SiC ক্রিস্টাল বৃদ্ধির জন্য প্রয়োজনীয় উচ্চ তাপমাত্রায় কার্যকরভাবে কাজ করতে দেয়, সাধারণত 2000°C অতিক্রম করে।

TaC এর যান্ত্রিক বৈশিষ্ট্যগুলি ট্যানটালাম কার্বাইড আবরণ রিং-এর পরিধানকে অনেকাংশে কমিয়ে দেয়। স্ফটিক বৃদ্ধি প্রক্রিয়ার পুনরাবৃত্তিমূলক প্রকৃতির কারণে এটি অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণ, যা গাইড রিংকে ঘন ঘন তাপচক্র এবং যান্ত্রিক চাপের মুখোমুখি করে। TaC এর কঠোরতা এবং পরিধানের প্রতিরোধ নিশ্চিত করে যে TaC প্রলিপ্ত রিং দীর্ঘ সময় ধরে তার কাঠামোগত অখণ্ডতা এবং সুনির্দিষ্ট মাত্রা বজায় রাখে, ঘন ঘন প্রতিস্থাপনের প্রয়োজনীয়তা হ্রাস করে এবং উত্পাদন প্রক্রিয়াতে ডাউনটাইম হ্রাস করে। 

উপরন্তু, ট্যানটালাম কার্বাইড লেপ রিং-এ গ্রাফাইট এবং TaC-এর সংমিশ্রণ ক্রিস্টাল গ্রোথ ফার্নেসের মধ্যে তাপ ব্যবস্থাপনাকে অপ্টিমাইজ করে। গ্রাফাইটের উচ্চ তাপ পরিবাহিতা দক্ষতার সাথে তাপ বিতরণ করে, হটস্পট প্রতিরোধ করে এবং অভিন্ন স্ফটিক বৃদ্ধির প্রচার করে। এদিকে, TaC আবরণ একটি তাপীয় বাধা হিসাবে কাজ করে, উচ্চ তাপমাত্রা এবং প্রতিক্রিয়াশীল গ্যাসের সরাসরি এক্সপোজার থেকে গ্রাফাইট কোরকে রক্ষা করে। মূল এবং আবরণ সামগ্রীর মধ্যে এই সমন্বয়ের ফলে একটি গাইড রিং তৈরি হয় যা কেবলমাত্র এর কঠোর অবস্থারই প্রতিরোধ করে নাSiC স্ফটিক বৃদ্ধিকিন্তু প্রক্রিয়াটির সামগ্রিক দক্ষতা এবং গুণমানও বাড়ায়।

VeTek সেমিকন্ডাক্টর ট্যানটালাম কার্বাইড প্রলিপ্ত রিং সেমিকন্ডাক্টর শিল্পে একটি অপরিহার্য উপাদান, বিশেষভাবে এর বৃদ্ধির জন্য ডিজাইন করা হয়েছেসিলিকন কার্বাইড স্ফটিক. এর নকশা উচ্চ-তাপমাত্রা, উচ্চ-চাপ পরিবেশে ব্যতিক্রমী কর্মক্ষমতা প্রদানের জন্য গ্রাফাইট এবং ট্যানটালাম কার্বাইডের শক্তিকে ব্যবহার করে। TaC আবরণ রাসায়নিক জড়তা, যান্ত্রিক স্থায়িত্ব এবং তাপীয় স্থায়িত্ব নিশ্চিত করে, এগুলি সবই উচ্চ-মানের SiC স্ফটিক তৈরির জন্য গুরুত্বপূর্ণ। চরম পরিস্থিতিতে এর অখণ্ডতা এবং কার্যকারিতা বজায় রাখার মাধ্যমে, রিংটি SiC স্ফটিকের দক্ষ এবং ত্রুটি-মুক্ত বৃদ্ধিকে সমর্থন করে, উচ্চ-শক্তি এবং উচ্চ-ফ্রিকোয়েন্সি সেমিকন্ডাক্টর ডিভাইসগুলির অগ্রগতিতে অবদান রাখে।

VeTek সেমিকন্ডাক্টর একটি নেতৃস্থানীয় প্রস্তুতকারকের এবং সরবরাহকারীট্যানটালাম কার্বাইড লেপ, সিলিকন কার্বাইড আবরণএবংবিশেষ গ্রাফাইটচীনে আমরা দীর্ঘকাল ধরে সেমিকন্ডাক্টর শিল্পের জন্য উন্নত প্রযুক্তি এবং পণ্য সমাধান প্রদানের জন্য প্রতিশ্রুতিবদ্ধ, এবং আন্তরিকভাবে চীনে আপনার দীর্ঘমেয়াদী অংশীদার হতে আশা করি।

ট্যানটালাম কার্বাইড (TaC) আবরণএকটি মাইক্রোস্কোপিক ক্রস-সেকশনে：

এর ওভারভিউসেমিকন্ডাক্টর চিপ এপিটাক্সি ইন্ডাস্ট্রি চেইন：