CVD SiC আবরণ ধাক্কাধাক্কি

Vetek সেমিকন্ডাক্টরের CVD SiC আবরণ ব্যাফেল প্রধানত Si Epitaxy তে ব্যবহৃত হয়। এটি সাধারণত সিলিকন এক্সটেনশন ব্যারেল ব্যবহার করা হয়। এটি CVD SiC আবরণ ব্যাফেলের অনন্য উচ্চ তাপমাত্রা এবং স্থায়িত্বকে একত্রিত করে, যা সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদনে বায়ুপ্রবাহের অভিন্ন বিতরণকে ব্যাপকভাবে উন্নত করে। আমরা বিশ্বাস করি যে আমাদের পণ্যগুলি আপনাকে উন্নত প্রযুক্তি এবং উচ্চ-মানের পণ্য সমাধান আনতে পারে।

অনুসন্ধান পাঠান

পণ্যের বর্ণনা

পেশাদার প্রস্তুতকারক হিসাবে, আমরা আপনাকে উচ্চ মানের প্রদান করতে চাইCVD SiC আবরণ ধাক্কাধাক্কি.

ক্রমাগত প্রক্রিয়া এবং উপাদান উদ্ভাবন উন্নয়নের মাধ্যমে,ভেটেক সেমিকন্ডাক্টরএরCVD SiC আবরণ ধাক্কাধাক্কিউচ্চ তাপমাত্রার স্থিতিশীলতা, জারা প্রতিরোধের, উচ্চ কঠোরতা এবং পরিধান প্রতিরোধের অনন্য বৈশিষ্ট্য রয়েছে। এই অনন্য বৈশিষ্ট্যগুলি নির্ধারণ করে যে CVD SiC আবরণ ব্যাফেল এপিটাক্সিয়াল প্রক্রিয়াতে একটি গুরুত্বপূর্ণ ভূমিকা পালন করে এবং এর ভূমিকায় প্রধানত নিম্নলিখিত দিকগুলি অন্তর্ভুক্ত রয়েছে:

বায়ুপ্রবাহের অভিন্ন বন্টন: CVD SiC আবরণ ব্যাফেলের উদ্ভাবনী নকশা এপিটাক্সি প্রক্রিয়া চলাকালীন বায়ুপ্রবাহের অভিন্ন বন্টন অর্জন করতে পারে। ইউনিফর্ম বায়ুপ্রবাহ অভিন্ন বৃদ্ধি এবং উপকরণের মানের উন্নতির জন্য অপরিহার্য। পণ্যটি কার্যকরভাবে বায়ুপ্রবাহকে গাইড করতে পারে, অতিরিক্ত বা দুর্বল স্থানীয় বায়ুপ্রবাহ এড়াতে পারে এবং এপিটাক্সিয়াল উপকরণগুলির অভিন্নতা নিশ্চিত করতে পারে।

এপিটাক্সি প্রক্রিয়া নিয়ন্ত্রণ করুন: CVD SiC আবরণ বাফেলের অবস্থান এবং নকশা এপিটাক্সি প্রক্রিয়া চলাকালীন প্রবাহের দিক এবং বায়ুপ্রবাহের গতিকে সঠিকভাবে নিয়ন্ত্রণ করতে পারে। এর বিন্যাস এবং আকৃতি সামঞ্জস্য করে, বায়ুপ্রবাহের সুনির্দিষ্ট নিয়ন্ত্রণ অর্জন করা যেতে পারে, যার ফলে এপিটাক্সি অবস্থার অপ্টিমাইজ করা যায় এবং এপিটাক্সি ফলন এবং গুণমান উন্নত করা যায়।

উপাদান ক্ষতি হ্রাস: CVD SiC আবরণ ব্যাফেলের যুক্তিসঙ্গত সেটিং এপিটাক্সি প্রক্রিয়ার সময় উপাদানের ক্ষতি কমাতে পারে। অভিন্ন বায়ুপ্রবাহ বন্টন অসম গরমের কারণে সৃষ্ট তাপীয় চাপ কমাতে পারে, উপাদান ভাঙ্গা এবং ক্ষতির ঝুঁকি কমাতে পারে এবং এপিটাক্সিয়াল উপকরণের পরিষেবা জীবন প্রসারিত করতে পারে।

এপিটাক্সি দক্ষতা উন্নত করুন: CVD SiC আবরণ ব্যাফেলের নকশা বায়ুপ্রবাহ ট্রান্সমিশন দক্ষতা অপ্টিমাইজ করতে পারে এবং এপিটাক্সি প্রক্রিয়ার দক্ষতা এবং স্থিতিশীলতা উন্নত করতে পারে। এই পণ্যটির ব্যবহারের মাধ্যমে, এপিটাক্সিয়াল সরঞ্জামগুলির কার্যকারিতা সর্বাধিক করা যেতে পারে, উত্পাদন দক্ষতা উন্নত করা যেতে পারে এবং শক্তি খরচ হ্রাস করা যেতে পারে।

এর মৌলিক শারীরিক বৈশিষ্ট্যCVD SiC আবরণ ধাক্কাধাক্কি：