CVD TAC আবরণ কি?

আমরা সবাই জানি,TaC3880 ডিগ্রি সেলসিয়াস পর্যন্ত একটি গলনাঙ্ক রয়েছে, উচ্চ যান্ত্রিক শক্তি, কঠোরতা, তাপীয় শক প্রতিরোধের; ভালো রাসায়নিক জড়তা এবং উচ্চ তাপমাত্রায় অ্যামোনিয়া, হাইড্রোজেন, সিলিকনযুক্ত বাষ্পের তাপীয় স্থিতিশীলতা।

CVD TAC আবরণ, রাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD) এরট্যানটালাম কার্বাইড (TaC) আবরণ, একটি সাবস্ট্রেটে (সাধারণত গ্রাফাইট) একটি উচ্চ-ঘনত্ব এবং টেকসই আবরণ গঠনের একটি প্রক্রিয়া। এই পদ্ধতিতে উচ্চ তাপমাত্রায় সাবস্ট্রেটের পৃষ্ঠে TaC জমা করা জড়িত, যার ফলে চমৎকার তাপীয় স্থিতিশীলতা এবং রাসায়নিক প্রতিরোধের একটি আবরণ তৈরি হয়।

CVD TaC আবরণগুলির প্রধান সুবিধাগুলির মধ্যে রয়েছে:

অত্যন্ত উচ্চ তাপ স্থিতিশীলতা: 2200 ডিগ্রি সেলসিয়াসের বেশি তাপমাত্রা সহ্য করতে পারে।

রাসায়নিক প্রতিরোধের: হাইড্রোজেন, অ্যামোনিয়া এবং সিলিকন বাষ্পের মতো কঠোর রাসায়নিকগুলিকে কার্যকরভাবে প্রতিরোধ করতে পারে।

দৃঢ় আনুগত্য: ডিলামিনেশন ছাড়াই দীর্ঘস্থায়ী সুরক্ষা নিশ্চিত করে।

উচ্চ বিশুদ্ধতা: অমেধ্য কমিয়ে দেয়, এটি অর্ধপরিবাহী অ্যাপ্লিকেশনের জন্য আদর্শ করে তোলে।

এই আবরণগুলি এমন পরিবেশের জন্য বিশেষভাবে উপযুক্ত যেগুলির জন্য উচ্চ স্থায়িত্ব এবং চরম অবস্থার প্রতিরোধের প্রয়োজন, যেমন সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদন এবং উচ্চ-তাপমাত্রা শিল্প প্রক্রিয়া।

শিল্প উৎপাদনে, TaC আবরণের সাথে প্রলিপ্ত গ্রাফাইট (কার্বন-কার্বন কম্পোজিট) উপাদানগুলি ঐতিহ্যবাহী উচ্চ-বিশুদ্ধতা গ্রাফাইট, পিবিএন আবরণ, SiC আবরণ যন্ত্রাংশ, ইত্যাদি প্রতিস্থাপন করার খুব সম্ভাবনা রয়েছে। উপরন্তু, মহাকাশের ক্ষেত্রে, TaC-এর প্রচুর সম্ভাবনা রয়েছে। একটি উচ্চ-তাপমাত্রা অ্যান্টি-অক্সিডেশন এবং অ্যান্টি-অ্যাবলেশন লেপ হিসাবে ব্যবহার করা হবে, এবং ব্যাপক প্রয়োগের সম্ভাবনা রয়েছে। যাইহোক, গ্রাফাইটের উপরিভাগে ঘন, অভিন্ন, নন-ফ্লেকিং TaC আবরণ প্রস্তুত করা এবং শিল্প ব্যাপক উৎপাদনকে উৎসাহিত করার জন্য এখনও অনেক চ্যালেঞ্জ রয়েছে।

এই প্রক্রিয়ায়, আবরণের সুরক্ষা ব্যবস্থা অন্বেষণ করা, উত্পাদন প্রক্রিয়া উদ্ভাবন করা এবং শীর্ষ বিদেশী স্তরের সাথে প্রতিযোগিতা করা তৃতীয় প্রজন্মের সেমিকন্ডাক্টর ক্রিস্টাল বৃদ্ধি এবং এপিটাক্সির জন্য অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণ।