VeTek সেমিকন্ডাক্টর হল একটি নেতৃস্থানীয় প্রস্তুতকারক, উদ্ভাবক এবং চীনের CVD TAC আবরণের নেতা। বহু বছর ধরে, আমরা বিভিন্ন CVD TAC আবরণ পণ্য যেমন CVD TaC আবরণ কভার, CVD TaC আবরণ রিং, CVD TaC আবরণ ক্যারিয়ার, ইত্যাদির উপর ফোকাস করে আসছি। VeTek সেমিকন্ডাক্টর কাস্টমাইজড পণ্য পরিষেবা এবং সন্তোষজনক পণ্যের দাম সমর্থন করে এবং আপনার আরও আশা করি পরামর্শ
CVD TaC আবরণ (রাসায়নিক বাষ্প জমা ট্যানটালাম কার্বাইড আবরণ) হল একটি আবরণ পণ্য যা প্রধানত ট্যানটালাম কার্বাইড (TaC) দ্বারা গঠিত। TaC আবরণ অত্যন্ত উচ্চ কঠোরতা, পরিধান প্রতিরোধের, এবং উচ্চ তাপমাত্রা প্রতিরোধের, এটি মূল সরঞ্জাম উপাদান রক্ষা এবং প্রক্রিয়া নির্ভরযোগ্যতা উন্নত করার জন্য একটি আদর্শ পছন্দ করে তোলে। এটি অর্ধপরিবাহী প্রক্রিয়াকরণে একটি অপরিহার্য উপাদান।
CVD TaC আবরণ পণ্যগুলি সাধারণত প্রতিক্রিয়া চেম্বার, ওয়েফার ক্যারিয়ার এবং এচিং সরঞ্জামগুলিতে ব্যবহৃত হয় এবং সেগুলিতে নিম্নলিখিত মূল ভূমিকা পালন করে।
CVD TaC আবরণ প্রায়ই প্রতিক্রিয়া চেম্বারের অভ্যন্তরীণ উপাদান যেমন সাবস্ট্রেট, ওয়াল প্যানেল এবং গরম করার উপাদানগুলির জন্য ব্যবহৃত হয়। এর চমৎকার উচ্চ তাপমাত্রা প্রতিরোধের সাথে মিলিত, এটি কার্যকরভাবে উচ্চ তাপমাত্রা, ক্ষয়কারী গ্যাস এবং প্লাজমার ক্ষয় প্রতিরোধ করতে পারে, যার ফলে কার্যকরভাবে সরঞ্জামের পরিষেবা জীবন প্রসারিত হয় এবং প্রক্রিয়াটির স্থিতিশীলতা এবং পণ্য উৎপাদনের বিশুদ্ধতা নিশ্চিত করে।
এছাড়াও, TaC-কোটেড ওয়েফার ক্যারিয়ার (যেমন কোয়ার্টজ বোট, ফিক্সচার, ইত্যাদি) এছাড়াও চমৎকার তাপ প্রতিরোধের এবং রাসায়নিক জারা প্রতিরোধের আছে। ওয়েফার ক্যারিয়ার উচ্চ তাপমাত্রায় ওয়েফারের জন্য নির্ভরযোগ্য সহায়তা প্রদান করতে পারে, ওয়েফারের দূষণ এবং বিকৃতি রোধ করতে পারে এবং এইভাবে সামগ্রিক চিপের ফলন উন্নত করতে পারে।
তাছাড়া, VeTek সেমিকন্ডাক্টরের TaC আবরণ বিভিন্ন এচিং এবং পাতলা ফিল্ম ডিপোজিশন ইকুইপমেন্টে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়, যেমন প্লাজমা ইচার, রাসায়নিক বাষ্প জমা করার সিস্টেম ইত্যাদি , যার ফলে প্রক্রিয়াটির নির্ভুলতা এবং পুনরাবৃত্তিযোগ্যতা নিশ্চিত করা হয়।
আপনার নির্দিষ্ট প্রয়োজনীয়তা যাই হোক না কেন, আমরা আপনার CVD TAC আবরণের চাহিদার জন্য সর্বোত্তম সমাধান মেলে এবং যেকোনো সময় আপনার পরামর্শের অপেক্ষায় থাকব।
TaC আবরণের শারীরিক বৈশিষ্ট্য | |
ঘনত্ব | 14.3 (g/cm³) |
নির্দিষ্ট নির্গততা | 0.3 |
তাপ সম্প্রসারণ সহগ | ৬.৩ ১০-৬/কে |
কঠোরতা (HK) | 2000 HK |
প্রতিরোধ | 1×10-5 ওহম*সেমি |
তাপীয় স্থিতিশীলতা | <2500℃ |
গ্রাফাইটের আকার পরিবর্তন | -10~-20um |
আবরণ বেধ | ≥20um সাধারণ মান (35um±10um) |