ট্যানটালাম কার্বাইড রিং

VeTek সেমিকন্ডাক্টরের ট্যানটালাম কার্বাইড (TaC) রিং মূল উপাদান হিসাবে উচ্চ-মানের গ্রাফাইট ব্যবহার করে এবং, এর অনন্য কাঠামোর জন্য ধন্যবাদ, একটি স্ফটিক বৃদ্ধির চুল্লির চরম অবস্থার অধীনে এর আকৃতি এবং যান্ত্রিক বৈশিষ্ট্য বজায় রাখতে সক্ষম। গ্রাফাইটের উচ্চ তাপ প্রতিরোধ ক্ষমতা এটিকে সর্বত্র চমৎকার স্থিতিশীলতা দেয়স্ফটিক বৃদ্ধি প্রক্রিয়া.

TaC রিং এর বাইরের স্তর a দ্বারা আবৃতট্যানটালাম কার্বাইড আবরণ, এটির অত্যন্ত উচ্চ কঠোরতা, 3880°C এর বেশি গলনাঙ্ক, এবং রাসায়নিক ক্ষয়ের জন্য চমৎকার প্রতিরোধের জন্য পরিচিত একটি উপাদান, এটি উচ্চ-তাপমাত্রা অপারেটিং পরিবেশের জন্য বিশেষভাবে উপযুক্ত করে তোলে। ট্যানটালাম কার্বাইড আবরণ কার্যকরভাবে হিংস্র রাসায়নিক বিক্রিয়া প্রতিরোধ করতে এবং উচ্চ-তাপমাত্রার চুল্লি গ্যাস দ্বারা গ্রাফাইট কোর ক্ষয়প্রাপ্ত না হয় তা নিশ্চিত করতে একটি শক্তিশালী বাধা প্রদান করে।

সময়সিলিকন কার্বাইড (SiC) স্ফটিক বৃদ্ধি, স্থিতিশীল এবং অভিন্ন বৃদ্ধির অবস্থা উচ্চ-মানের ক্রিস্টাল নিশ্চিত করার মূল চাবিকাঠি। ট্যানটালাম কার্বাইড আবরণ রিং গ্যাস প্রবাহ নিয়ন্ত্রণ এবং চুল্লি মধ্যে তাপমাত্রা বন্টন অনুকূল একটি গুরুত্বপূর্ণ ভূমিকা পালন করে. গ্যাস গাইড রিং হিসাবে, TaC রিং তাপ শক্তি এবং প্রতিক্রিয়া গ্যাসের অভিন্ন বন্টন নিশ্চিত করে, SiC স্ফটিকগুলির অভিন্ন বৃদ্ধি এবং স্থিতিশীলতা নিশ্চিত করে।

উপরন্তু, ট্যানটালাম কার্বাইড প্রলিপ্ত প্রতিরক্ষামূলক প্রভাবের সাথে মিলিত গ্রাফাইটের উচ্চ তাপ পরিবাহিতা TaC গাইড রিংকে SiC স্ফটিক বৃদ্ধির জন্য প্রয়োজনীয় উচ্চ-তাপমাত্রার পরিবেশে স্থিরভাবে কাজ করতে সক্ষম করে। এর কাঠামোগত শক্তি এবং মাত্রিক স্থিতিশীলতা চুল্লিতে অবস্থা বজায় রাখার জন্য অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণ, যা সরাসরি উত্পাদিত স্ফটিকগুলির গুণমানকে প্রভাবিত করে। চুল্লির মধ্যে তাপীয় ওঠানামা এবং রাসায়নিক বিক্রিয়া কমিয়ে, TaC আবরণ রিং উচ্চ-কর্মক্ষমতা সেমিকন্ডাক্টর অ্যাপ্লিকেশনের জন্য চমৎকার ইলেকট্রনিক বৈশিষ্ট্য সহ ক্রিস্টাল তৈরি করতে সাহায্য করে।

VeTek সেমিকন্ডাক্টরের ট্যানটালাম কার্বাইড রিং এর একটি মূল উপাদানসিলিকন কার্বাইড স্ফটিক বৃদ্ধি চুল্লিএবং এর চমৎকার স্থায়িত্ব, তাপীয় স্থিতিশীলতা এবং রাসায়নিক প্রতিরোধের জন্য আলাদা। এর গ্রাফাইট কোর এবং TaC আবরণের অনন্য সমন্বয় এটিকে কঠোর পরিস্থিতিতে কাঠামোগত অখণ্ডতা এবং কার্যকারিতা বজায় রাখতে দেয়। চুল্লির মধ্যে তাপমাত্রা এবং গ্যাস প্রবাহকে সুনির্দিষ্টভাবে নিয়ন্ত্রণ করে, TaC আবরণ রিং উচ্চ-মানের SiC স্ফটিক উত্পাদনের জন্য প্রয়োজনীয় শর্ত সরবরাহ করে, যা অত্যাধুনিক সেমিকন্ডাক্টর উপাদান উত্পাদনের জন্য গুরুত্বপূর্ণ।

একটি মাইক্রোস্কোপিক ক্রস-সেকশনে ট্যানটালাম কার্বাইড (TaC) আবরণ：