ভেটেক সেমিকন্ডাক্টর ফিজিক্যাল ভ্যাপার ডিপোজিশন (PVD) হল একটি উন্নত প্রক্রিয়া প্রযুক্তি যা সারফেস ট্রিটমেন্ট এবং পাতলা ফিল্ম তৈরিতে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়। PVD প্রযুক্তি পদার্থকে কঠিন বা তরল থেকে গ্যাসে সরাসরি রূপান্তর করতে এবং লক্ষ্য স্তরের পৃষ্ঠে একটি পাতলা ফিল্ম তৈরি করতে শারীরিক পদ্ধতি ব্যবহার করে। এই প্রযুক্তির উচ্চ নির্ভুলতা, উচ্চ অভিন্নতা এবং শক্তিশালী আনুগত্যের সুবিধা রয়েছে এবং সেমিকন্ডাক্টর, অপটিক্যাল ডিভাইস, টুল লেপ এবং আলংকারিক আবরণে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়। আমাদের সাথে আলোচনা স্বাগতম!
ভেটেক সেমিকন্ডাক্টর হল একটি চীন প্রস্তুতকারক যারা ভৌত বাষ্প জমা করার প্রক্রিয়ায় উন্নত অর্ধপরিবাহী উপকরণ সরবরাহ করেSiC প্রলিপ্ত ক্রুসিবল, কাঁচযুক্ত কার্বন ক্রুসিবল,SiC আবরণ গ্রাফাইট হিটার,ইলেক্ট্রন রশ্মি বন্দুক বাষ্পীভবন crucibles.
PVD প্রক্রিয়ার মৌলিক নীতি
দৈহিক বাষ্প জমার প্রক্রিয়ায় সাধারণত বাষ্পীভবন, স্পুটারিং এবং আয়ন প্লেটিং এর মতো বিভিন্ন নির্দিষ্ট পদ্ধতি অন্তর্ভুক্ত থাকে। যে পদ্ধতিই ব্যবহার করা হোক না কেন, ভৌত বাষ্প জমার মূল নীতি হল উচ্চ-তাপমাত্রা উত্তাপ বা আয়ন বোমাবাজির মাধ্যমে উৎস থেকে উপাদানকে বাষ্পীভূত করা। বাষ্পীভূত পদার্থটি পরমাণু বা অণুর আকারে ভ্যাকুয়াম বা নিম্ন-চাপের পরিবেশে চলে যায় এবং সাবস্ট্রেটের পৃষ্ঠে একটি পাতলা ফিল্মে ঘনীভূত হয়। এই প্রক্রিয়াটি মূলত শারীরিক উপায়ে অর্জন করা হয়, এইভাবে উপাদানের বিশুদ্ধতার উপর রাসায়নিক বিক্রিয়ার প্রভাব এড়ানো যায়।
ভৌত বাষ্প জমা প্রযুক্তির সুবিধা
উচ্চ বিশুদ্ধতা এবং উচ্চ ঘনত্ব: PVD জমাকৃত ফিল্মগুলিতে সাধারণত উচ্চ বিশুদ্ধতা এবং ঘনত্ব থাকে, যা আবরণের কার্যক্ষমতাকে উল্লেখযোগ্যভাবে উন্নত করতে পারে, যেমন পরিধান প্রতিরোধের, জারা প্রতিরোধের এবং কঠোরতা।
শক্তিশালী ফিল্ম আনুগত্য: PVD প্রক্রিয়া সাবস্ট্রেটের উপর দৃঢ় আনুগত্য সহ একটি ফিল্ম তৈরি করতে পারে, এটি নিশ্চিত করে যে ফিল্মটি ব্যবহারের সময় খোসা ছাড়ানো সহজ নয়, পণ্যের পরিষেবা জীবনকে প্রসারিত করে।
উপাদান নির্বাচন বিস্তৃত পরিসীমা: PVD প্রযুক্তি ধাতু, সিরামিক এবং অ্যালো সহ বিভিন্ন উপকরণে প্রয়োগ করা যেতে পারে এবং বিভিন্ন কার্যকরী আবরণ প্রস্তুত করতে পারে, যেমন পরিবাহী, অন্তরক, তাপ-প্রতিরোধী এবং অ্যান্টি-অক্সিডেশন আবরণ।
পরিবেশগত সুরক্ষা এবং স্থায়িত্ব: রাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD) এর মতো প্রক্রিয়াগুলির সাথে তুলনা করে, ভৌত বাষ্প জমা (PVD) প্রক্রিয়াটি আরও পরিবেশগতভাবে বন্ধুত্বপূর্ণ, ক্ষতিকারক গ্যাস তৈরির সাথে জড়িত নয় এবং পরিবেশের দূষণ হ্রাস করে৷
PVD প্রযুক্তির প্রয়োগ
সেমিকন্ডাক্টর শিল্প: অর্ধপরিবাহী উত্পাদনে, উপাদানগুলির ভাল পরিবাহিতা এবং স্থিতিশীলতা নিশ্চিত করার জন্য শারীরিক বাষ্প জমা প্রায়শই পাতলা ফিল্ম ইলেক্ট্রোড, প্রসারণ বাধা এবং ধাতু আন্তঃসংযোগ তৈরিতে ব্যবহৃত হয়।
অপটিক্যাল ডিভাইস: শারীরিক বাষ্প জমা প্রযুক্তি ব্যাপকভাবে অপটিক্যাল আবরণে ব্যবহৃত হয়, যেমন আয়না এবং লেন্সের জন্য অ্যান্টি-রিফ্লেক্টিভ আবরণ এবং অপটিক্যাল ডিভাইসের কর্মক্ষমতা উন্নত করতে অপটিক্যাল ফিল্টার তৈরিতে।